拓荆科技股份有限公司公司概况 - 中国 | 财务及主要执行人员

拓荆科技股份有限公司从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备： PECVD设备和HTM PECVD设备，原子层沉积（ALD）设备：PEALD设备、HTM PEALD设备和Thermal ALD设备，次常压化学气相沉积（SACVD）设备：SACVD设备。公司成立于2010年，总部位于辽宁省沈阳市。

总部
辽宁省沈阳市浑南区水家900号
沈阳; 辽宁; 邮编: 110168

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网站: http://www.sypiotech.cn

基本信息

员工总数:

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流通股:

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注册资本:

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财务审计师:

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成立日期:

2010.04.28

主要管理人员

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监事会主席

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董事

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董事

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董事

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董事

所有权明细

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19.86%

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13.68%

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7.41%

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3.26%

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2.33%

下属公司

Piotech (USA) Inc.

上海岩泉科技有限公司

上海稷以科技有限公司

公司业绩

图表中的财务价值可在之后获得拓荆科技股份有限公司报告购买。

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主要财务重点

年增长百分比对于以当地货币近两年CNY。绝对财务数据包含在购买报告中。

销售净额

33.79%▲

营业收入总计

38.69%▲

营业利润

-5.67%▼

净利润（亏损）

-3.57%▼

总资产

49.72%▲

权益总额

16.5%▲

经营利润率

-4.67%▼

销售收益率

-4.42%▼

股本收益率

-1.14%▼

负债股权比率

29.81%▲

速动比率

-0.42%▼

现金比率

-0.4%▼

拓荆科技股份有限公司 (中国)

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